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一种基于Cu衬底基GaN整流器及其制备方法
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
所属地域
PCT项
交易方式
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  • PCT项
CN2019112423692
2019-12-06
发明专利
一种基于Cu衬底基GaN整流器及其制备方法
华南理工大学
已授权

本发明公开了一种基于Cu衬底基GaN整流器的制备方法,从下至上包括Cu衬底、高掺杂GaN高阻层、GaN缓冲层、AlGaN势垒层及SiO2表面钝化层,还包括肖特基接触电极及N型欧姆接触电极,所述肖特基接触电极及N型欧姆接触电极设置在AlGaN势垒层的上表面,其中,两种电极间在外加电压条件下形成横向电场,使二维电子气沿界面输运形成电流。本发明在制备过程中无复杂操作和其他有害副产物产生,为未来大功率电子器件热稳定性问题提供解决方案。

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