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一种GaN基倒装HEMT器件结构及其制备方法
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
所属地域
PCT项
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  • PCT项
CN2015105198070
2015-08-23
发明专利
一种GaN基倒装HEMT器件结构及其制备方法
华南理工大学
已授权

本发明涉及一种GaN基倒装HEMT器件结构及其制备方法。GaN基倒装HEMT器件结构包括基板、电极焊盘、电极、绝缘介质膜、外延层和导电通孔。所述外延层包括GaN缓冲层和AlGaN势垒层,栅电极一端穿过绝缘介质膜与栅电极焊盘连接,栅电极另一端与外延层的AlGaN势垒层连接,所述外延层通过栅电极焊盘与基板粘合在一起;所述基板、栅电极焊盘、绝缘介质膜、AlGaN势垒层、GaN缓冲层自下而上排布。本发明的HEMT器件外延片与散热基板通过栅电极焊盘连接,散热性能明显改善。另外源漏栅电极焊盘在外延层上方,没有刻蚀掉无用的外延层,外延层的有效利用率提高。本发明还提供一种GaN基倒装HEMT器件的制备方法。

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