本发明涉及一种GaN基倒装HEMT器件结构及其制备方法。GaN基倒装HEMT器件结构包括基板、电极焊盘、电极、绝缘介质膜、外延层和导电通孔。所述外延层包括GaN缓冲层和AlGaN势垒层,栅电极一端穿过绝缘介质膜与栅电极焊盘连接,栅电极另一端与外延层的AlGaN势垒层连接,所述外延层通过栅电极焊盘与基板粘合在一起;所述基板、栅电极焊盘、绝缘介质膜、AlGaN势垒层、GaN缓冲层自下而上排布。本发明的HEMT器件外延片与散热基板通过栅电极焊盘连接,散热性能明显改善。另外源漏栅电极焊盘在外延层上方,没有刻蚀掉无用的外延层,外延层的有效利用率提高。本发明还提供一种GaN基倒装HEMT器件的制备方法。
咨询热线:020-38033421
传真号码:020-38061201
电子邮箱:jm@jiaquanip.cn
Copyright © 嘉权专利商标事务所 All Rights Reserved. 粤ICP备2023151901号