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一种氧化物绝缘体薄膜及薄膜晶体管
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
所属地域
PCT项
交易方式
  • 专利详情
  • 专利摘要
  • 主权利要求
  • 优先权项
  • PCT项
CN2018103602909
2018-04-20
发明专利
一种氧化物绝缘体薄膜及薄膜晶体管
华南理工大学
已授权

一种氧化物绝缘体薄膜,成分为MxAlyZrzOδ,M为元素Sc或Y,0.01≤x≤0.5,0.3≤z<0.99,x+y+z=1,0<δ≤2,厚度为2~1000nm,采用真空法或溶液法制备,用作薄膜晶体管的绝缘层。一种薄膜晶体管设置有栅极、沟道层、位于栅极和沟道层之间的绝缘层、分别连接在沟道层两端的源极和漏极,绝缘层采用上述的氧化物绝缘体薄膜。该氧化物薄膜具有较大的禁带宽度、对空气中的水、氧气和二氧化碳气体不敏感,表面粗糙度小,且与氧化物半导体接触界面的界面载流子陷阱密度低,故绝缘层采用该氧化物绝缘体薄膜的薄膜晶体管载流子迁移率高、电学性能稳定。

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