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一种GaN基薄膜晶体管结构及其制备方法
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
所属地域
PCT项
交易方式
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  • PCT项
CN2015108138762
2015-11-23
发明专利
一种GaN基薄膜晶体管结构及其制备方法
华南理工大学
已授权

本发明涉及一种GaN基薄膜晶体管结构及其制备方法。所述薄膜晶体管结构包括基板、绝缘介质膜、电极、晶体管的外延层和钝化介质膜。制备方法中,外延片制备好电极后,键合到绝缘基板上,然后去除原来的衬底,并减薄GaN缓冲层,最后沉积绝缘钝化膜。晶体管外延层的原有衬底及部分质量较差的半导体薄膜被去除,剩余的半导体薄膜晶体质量较高,具有很高的电阻,晶体管的漏电流可以显著降低。另外薄膜晶体管的源漏电极与导热基板直接连接,使晶体管的散热性能更好。

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