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湿法腐蚀辅助掺杂制备的增强型GaN HEMT器件及制备方法
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
所属地域
PCT项
交易方式
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  • PCT项
CN2019111558527
2019-11-22
发明专利
湿法腐蚀辅助掺杂制备的增强型GaN HEMT器件及制备方法
华南理工大学
已授权

本发明公开了一种湿法腐蚀辅助掺杂制备的增强型GaNHEMT器件及其制备方法,所述器件包括包括从下到上依次排布的硅基、GaN外延层和AlGaN势垒层,AlGaN势垒层上表面形成p型AlGaN掺杂层,AlGaN势垒层上表面的两端接触有源极和漏极,p型AlGaN掺杂层的上表面具有氧化镁保护层,氧化镁保护层的上表面接触有栅极。利用热的磷酸溶液对光刻栅极区域AlGaN势垒层表面进行腐蚀处理,引入大量的表面态缺陷,提高镁原子的扩散效率,更加容易实现AlGaN势垒层的P型掺杂,该方法具有腐蚀损伤小、辅助掺杂效率高、器件漏电低的优点,对于实现低漏电增强型GaNHEMT器件具有重要意义。

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