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一种平面分离双栅薄膜晶体管及其制备方法
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
所属地域
PCT项
交易方式
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  • PCT项
CN2015109764091
2015-12-21
发明专利
一种平面分离双栅薄膜晶体管及其制备方法
华南理工大学
已授权

本发明属于半导体技术领域,公开了一种平面分离双栅薄膜晶体管及其制备方法。所述方法为:(1)在衬底上沉积绝缘介质材料作为过渡层;(2)在过渡层上沉积导电薄膜,光刻形成两个栅电极;(3)在过渡层和栅电极上沉积绝缘薄膜形成绝缘栅介质层;(4)在绝缘栅介质层上沉积薄膜,形成半导体有源层;(5)在半导体有源层上旋涂光刻胶层,光刻形成源/漏电极的接触孔;(6)在接触孔和光刻胶上沉积导电薄膜,剥离形成源电极和漏电极;(7)退火处理。本发明的晶体管通过调整两个栅极的偏压可使TFT器件呈现出不同的输出和转移特性,两个栅极可同时作为控制栅和信号栅使用,使电路得到简化,有效地拓展TFT的应用范围。

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