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一种具有全铝透明源漏电极的透明薄膜晶体管
交易价格:面谈
所属类型
实用新型专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
所属地域
PCT项
交易方式
  • 专利详情
  • 专利摘要
  • 主权利要求
  • 优先权项
  • PCT项
CN2018201266858
2018-01-25
实用新型专利
一种具有全铝透明源漏电极的透明薄膜晶体管
华南理工大学
已授权

本实用新型属于薄膜晶体管技术领域,公开了一种具有全铝透明源漏电极的透明薄膜晶体管。所述薄膜晶体管由依次层叠的玻璃衬底、ITO栅极、Si3N4栅极绝缘层、IGZO半导体层、Al2O3半导体修饰层以及两侧的源漏电极构成,所述Si3N4栅极绝缘层完全覆盖ITO栅极,所述源漏电极由内至外依次具有AZO/Al/AZO/Al/AZO的五层堆叠结构,源漏电极最内层与Si3N4栅极绝缘层、IGZO半导体层和Al2O3半导体修饰层两侧均接触。本实用新型的源漏电极为AZO/Al/AZO/Al/AZO五层堆叠结构,能够降低薄膜的接触电阻率并实现高透光性。

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