本发明公开了吉非替尼新晶型及其基于超临界反溶剂技术的制备方法。吉非替尼新晶型为β晶型，β晶型在ＸＲＰＤ图谱上２θ角为６．７的位置具有最强特征峰；在ＸＲＰＤ图谱上２θ角约为６．７、１３．０的位置具有主要特征峰，所述主要特征峰的相对强度大于２０％；在ＸＲＰＤ图谱上２θ角为１４．０、１９．７、２６．１、３２．８、３８．８、４０．５、４６．５的位置具有特征峰，所述特征峰的相对强度不大于５％。本发明基于超临界反溶剂技术的制备方法过程工艺简单、条件温和、重现性好，所得吉非替尼晶型β粒径较小且粒度分布较窄，溶解度较高。